话题主要涉及半导体设计以及制造领域还有计算机，服务器等生态领域。
在会议上，徐申学更多时候是充当一个技术介绍人的角色，详细为参加会议的人介绍国内，或者说智云在这些领域的一些技术发展情况。
重点介绍了智云集团在半导体设计以及制造领域的技术进步，同时还重点介绍了仙女山控股旗下的光刻机、蚀刻机等半导体制造设备以及光刻胶、特殊气体等耗材等领域的技术进步。
“目前我们生产的duv干式光刻机已经全面应用于智云微电子的芯片生产工厂里，其整体生产效率以及成本控制上，虽然对比国外同类产品有一些差距，但是通过压低设备采购成本，耗材成本以及尤其维护成本，也足以让芯片工厂的整合成本做到和国外进口产品相当的程度！”
“按照我们的规划，大概在明年，我们就能够在六十五纳米工艺生产线上，完成百分之八十的关键设备以及耗材的自主可控！”
“三年内，预计就能够实现六十五纳米工艺的完全自主可控！”
“同时我们还在展开duv浸润式光刻机为核心的四十五纳米以及以下工艺的生产线的研发，在duv浸润式光刻机上已经获得了一定的技术突破，各大的关键核心子系统已经解决了基本的技术难题，目前正处于系统整合，细节问题的处理上，我的技术团队向我承诺过，最初明年年中，就能够拿出来首台样机进行测试！”
“配套的蚀刻机，离子注入机等诸多核心设备的研发有快有慢，但是大概也能够在两到三年内完成技术积累，逐步完善，乐观估计在15年左右，我们就能够在部分进口设备以及耗材的支持下，初步建立一条四十五纳米生产线，预估在16年左右做到自主可控！”
“而通过这一套设备的继续往下延伸，我们是能够满足更先进的二十八纳米工艺，乃至二十二纳米工艺，甚至十四纳米工艺的自主可控的！”
“毕竟二十八纳米工艺以下，基本都算是等效工艺，对设备的要求虽然更高，但是本质上没有太大的变化。”
“如今我的芯片工厂正在展开的二十二纳米3d晶体管的工艺研究，也是基于现有的设备生产线而进行的！”
“而在更先进的euv光刻机，也就是十四纳米工艺以下的生产线研究里，我们目前还处于技术论证阶段，核心的光源问题已经有了一些技术成果